各式加熱系統其存在的目的是為了解決半導體及光電設備在化學氣相沉積(CVD)及金屬蝕刻(Metal Etch)上管路阻塞的問題。

化學氣相沉積(CVD)及金屬蝕刻(Metal Etch)，在不同製程上會製造多種生成物，如氯化氨在反應腔體的後段，真空管路內的溫度會漸漸冷卻，表面上容易凝結，這種沉積會影響管路的通暢及降低角閥開關靈活的作用，為了解決這方面的問題，角閥、真空接頭及真空管接縫必須維持一定溫度，以便這些生成物保持流動不會附著於管壁上，直至廢棄處理槽內處理，進而使機台保養的機率及次數減少，同時延長機台的使用壽命 。